半导体紫外光固化机

在半导体行业，常用紫外固化机对晶片进行曝光。这种半导体紫外光固化机至少是由用来承载晶片的曝光镜头以及液体循环装置构成，其中液体循环装置在曝光期间为曝光镜头与晶片之间供应液体。其特征在于，半导体UVLED曝光前，UVLED利用至少一对准光源对承载台进行一对准操作，其中对准光源具有一特定波长，使液体挥发时对对准光源的影响降至最低，以防止液体影响前述对准操作。

原理及特点

半导体紫外光固化机的原理以及特点：

1、省电节能，减低成本，半导体紫外光曝光机的LED发光达到某种亮度时所消耗的能量只有15瓦左右，而传统的灯达到同样亮度要消耗1500瓦的能量，即使与UV卤素灯相比，也可节省80%的能源。

2、紫外光固化机的发光不是红外线加热，发放的热力较低，因而不会影响那些容易受热而变形的介质(像泡沫塑料板、箔膜、PVC等)在印刷过程中的传送。这样，介质的应用范围就更加广泛了。 　　

3、反应时间快，紫外光固化机不需要预热，可以开机后立即印刷，生产力得以提高。 　　

4、安全性高，稳定性高，UV喷墨印刷机的印刷质量跟UV干燥固化的过程有莫大关系，半导体紫外光固化机的稳定性使得输出的能量是可预见的、稳定的，因此印刷效果同样是可预见的、稳定的。

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