四大应用
一、UVLED曝光工艺
在LCD生产过程中,光刻的目的就是按照产品设计要求,在ITO导电玻璃上涂覆感光胶,并进行紫外光曝光,即进行选择性照射,使受光部位的光刻胶发生化学反应,改变了这部分胶膜在显影液中的溶解度。然后利用光刻胶的保护作用,对ITO导电层进行选择性化学腐蚀,从而在ITO导电玻璃上得到与掩模版完全对应的图形。
二、UVLED改质(紫外光表面质变)
目前在液晶显示器STN的生产过程中,主要是用在膜处理技术上,对于改善膜与膜之间的密接是非常有效的,如ITO膜与感光胶膜层,TOP涂层与PI涂层等等。
没有灌注液晶的压合后的空液晶盒要进行封框胶紫外光固化,灌注液晶之后的液晶盒要进行封口胶的UVLED照射固化。
四、UVLED清洗
光清洗技术是利用有机化合物的光敏氧化作用达到去除黏附在材料表面上的有机物质,经过光清洗后的材料表面可以达到“原子清洁度”。
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